四氟化碳CF4
名称 | 分子式 | 纯度 | 规格 | 阀门 | 充装量 |
四氟化碳 | CF4 | ≥99.999% | 47L | Diss716/CGA580 | 32Kg |
产品名称: 四氟化碳|四氟甲烷|CF4
其他名称: 四氟甲烷、R14、tetrafluoromethane、carbon tetrafluoride
分子式: CF4
UN No. UN1956
CAS No. 75-73-0
产品纯度:99.99~99.9999%
包装说明: 43L DOT钢瓶，钢瓶尺寸23 × 130cm，316L SS材质阀门，阀门型号CGA660
产品说明: 四氟化碳在常温常压下为无色无臭有轻微醚味的气体�？掌胁蝗忌�，是比较稳定的无毒物质。但是在高温时，或与可燃气体一同燃烧时，分解出有毒的氟化物。在1000℃以上能与二氧化碳形成羰基氟。微溶于水，在25℃，101.325kPa时，水中溶解度为0.0015%(重量)。有轻微的水解作用。
四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗，太阳能电池的生产，激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态，印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于它的化学稳定性，四氟化碳可用于金属冶炼，例如：铜、不锈钢，碳钢、铝、蒙乃尔等；还可用于塑料行业；如：合成橡胶、氯丁橡胶、聚氨基甲酸乙酯。
四氟化碳用途
四氟化碳是目前微电子工业中用量大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。
1：在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、
泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。
2：可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-H2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。
3：由于化学稳定性极强，CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。
4.：四氟化碳的溶氧性很好，因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功，在275米到366米的深度内，小白鼠仍可安全脱险。
注意事项: 不燃性压缩气体。储存于阴凉、通风仓间内。仓内温度不宜超过30℃。远离火种、热源。防止阳光直射。应与易燃或可燃物分开存放。验收时要注意品名，注意验瓶日期，先进仓的先发用。搬运时轻装轻卸，防止钢瓶及附件破损。泄漏时，应迅速撤离泄漏污染区人员至上风处，并进行隔离，严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器，穿一般作业工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风，加速扩散。如有可能，即时使用。漏气容器要妥善处理，修复、检验后再用。四氟化碳一般认为是惰性低毒物质，在高浓度下是窒息剂，其毒性不及四氯化碳。 四氟化碳为非腐蚀性气体，所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜，铝等金属材料都可以使用，但是含镁大于2%的合金不能用。在高温，一些金属起加速CF4分解的催化作用。按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下：因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。可以用聚四氟乙烯，环氧树脂和醋酸纤维。尼龙在高温，有水和空气时变脆。聚三氟氯乙烯聚合体可以用，但稍微有膨胀。废气可直接排人大气中。
四氟化碳的物理化学性质
分子量：88.005
熔点(101.325kPa)： -186.8℃
沸点(101.325kPa)： -128.0℃
液体密度(-127.94℃，101.325kPa)：1603kg/m3
气体密度(0℃，101.325kPa)： 3.946 kg/m3
相对密度(气体，0℃，101.325kPa)： 3.05
气液容积比(15℃，100kPa)：436 L/L
比容(21.1℃，101.325kPa)：0.2747m3/kg
临界温度： -45.6℃
临界压力： 3739kPa
临界密度： 629kg/m3
压缩系数：
温度℃
| 压缩系数 |
100kPa | 1000kPa | 5000kPa | 10000kPa |
1 5 | 0.9981 | 0.9763 | 0.7832 | 0.6058 |
50 | 0.9988 | 0.9866 | 0.8717 | 0.7637 |
熔化热(-186.8℃)： 7.609 kJ/kg
气化热(-127.94℃，101.325kPa)： 135.65 kJ/kg
比热容(气体，25℃，101.325kPa)：Cp=696 J/(kg·K)
Cv=602J/(kg·K)
比热比(气体，25℃，101.325kPa)：Cp/Cv=1.157
蒸气压(-180.65 C)：0.20 kPa
(-120℃)： 165 kPa
(-50℃)： 3220 kPa
粘度(101.325kPa，0℃，气体)：0.0161 mPa·S
(-60.0℃，液体)：0.170 mPa·S
表面张力(-80.0℃)： 6.4 mN/m
导热系数(101.325kPa，0℃)：0.01503 w/(m·K)
(液体，-60.0℃)：0.07196 w/(m·K)
折射率(-73℃)： 1.151
四氟化碳在常温常压下为无色无臭有轻微醚味的气体�？掌胁蝗忌�，是比较稳定的无毒物质。但是在高温时，或与可燃气体一同燃烧时，分解出有毒的氟化物。在1000℃以上能与二氧化碳形成羰基氟。微溶于水，在25℃，101.325kPa时，水中溶解度为0.0015%(重量)。有轻微的水解作用。
四氟化碳制备方法：
1.由碳与氟反应，或一氧化碳与氟反应，或碳化硅与氟反应，或氟石与石油焦在电炉里反应，或二氟二氯甲烷与氟化氢反 应，或四氯化碳与氟化银反应，或四氯化碳与氟化氢反应，都能生成四氟化碳。四氯化碳与氟化氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行，反应后的气体经水洗、 碱洗除去酸性气体，再通过冷冻，用硅胶除去气体中的水分，最后经精馏而得成品。
2.预先称取5～10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉，置于镍盘中，使硅和碳化硅充分接触后，将镍盘放入蒙乃尔 合金反应管中，向反应管内通入氟气，氟气先和单质硅反应，反应放热后，氟开始和碳化硅进行反应，通入等体积的干燥氮气以稀释氟气，使反应继续进行，生成气 体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝，然后慢慢地气化后，将其通过装有氢氧化钠溶液的洗气瓶除去四氟化硅，随后通过硅胶和五氧化二磷干燥塔得到最终产品。
3.以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。在装有活性炭的反应炉中，缓缓通入高浓氟气，并通过加热器加热、供氟速率和 反应炉冷却控制反应温度。产品经除尘，碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进 行间歇粗馏，通过控制精馏温度，除去O2、N2、H2，得到高纯CF4。
详情可致电何经理：13927730509
